| CHF3 is used in the semiconductor industry in plasma etching of silicon oxide and silicon nitride. | CHF3 используется в полупроводниковой промышленности при плазменном травлении оксида кремния и нитрида кремния. |
| (a) Chromium electroplating, chromium anodizing and reverse etching until 2014; | а) при нанесении гальванических хромовых покрытий, в хромовом анодировании и обратном травлении до 2014 года; |
| To fabricate fine patterns by etching, use of surfactant containing PFOS is currently necessary, according to information from Japan. | Согласно информации из Японии, в настоящее время для нанесения рисунков с уменьшенными элементами при травлении необходимо использовать поверхностно-активное вещество, содержащее ПФОС. |
| The present invention proposes a method for forming a masking image in positive electronic resists, which method comprises direct etching of a resist directly during exposure to an electron beam in a vacuum. | В данном изобретении предложен способ формирования маскирующего изображения в позитивных электронных резистах, состоящий в прямом травлении резиста непосредственно в процессе экспонирования пучком электронов в вакууме. |