Нитрида (примеров 16)
-
CHF3 is used in the semiconductor industry in plasma etching of silicon oxide and silicon nitride.
CHF3 используется в полупроводниковой промышленности при плазменном травлении оксида кремния и нитрида кремния.
-
In the second stage, a mixture comprising cubic boron nitride powder, metallic aluminium, a high-melting metal carbide and a catalyst is prepared.
На втором этапе готовят смесь, содержащую порошок кубического нитрида бора, металлический алюминий, карбид тугоплавкого металла и катализатор.
-
The invention relates to the production of cubic boron nitride for the subsequent manufacturing of superhard composites.
Изобретение относится к получению кубического нитрида бора для последующего изготовления сверхтвердых композитов.
-
The invention relates to a technique for growing semiconductor materials and may be used for obtaining single crystals of gallium nitride and also solid solutions based thereon.
Изобретение относится к технологии выращивания полупроводниковых материалов и может быть использовано для получения монокристаллов нитрида галлия, а также твердых растворов на его основе.
-
The technical result is a decrease of the corrosion rate of the materials of the container containing the melt, and an increase in the quality of the single crystals of gallium nitride obtained.
Технический результат: снижение скорости коррозии материалов контейнера, содержащего расплав, и повышение качества получаемых монокристаллов нитрида галлия.