| (a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes; | а) фоторезисты или антибликовые покрытия для процессов фотолитографии; |
| PFOS reduces the surface tension and reflectivity of etching solutions, properties that are important for precise photolithography in the semiconductor industry (photo resists and photo masks). | ПФОС уменьшает поверхностное натяжение и отражательную способность травильных растворов; эти свойства важны для точной фотолитографии в полупроводниковой промышленности (фоторезисты и фотошаблоны). |
| New photolithography technologies use less photo resist per wafer than older technologies, and the new photoresist formulations contain much lower concentrations of PFOS. | Новые технологии фотолитографии позволяют использовать меньшее количество фоторезиста на плате по сравнению со старыми технологиями, и новые составы фоторезиста содержат гораздо более низкие концентрации ПФОС. |
| It should also be noted that during the chemical formulation of photolithography products, worker exposure potential is very low because the process occurs under highly automated, largely closed system conditions. | Следует также отметить, что опасность воздействия на работников в процессе приготовления химических составов для фотолитографии крайне невелика, поскольку этот процесс протекает в рамках автоматизированных систем преимущественно закрытого типа. |
| Photolithography reportedly represents 150 of the total of 500 steps mentioned above. | Как указывается в литературе, к процессу фотолитографии относится 150 из упомянутых выше 500 операций. |
| Some of the methods that are used for 3D bioprinting of cells are photolithography, magnetic bioprinting, stereolithography, and direct cell extrusion. | Некоторые из методов, которые используются в 3D-биопринтинге - фотолитография, магнитный биопринтинг, стереолитография, и прямая экструзия клеток. |
| The microelectronics production field is responsible for the dusting of metals in vacuum, photolithography, chemical cleaning and collection and adjustment of hybrid-integral schemes. | В области производства микроэлектронной аппаратуры осуществляются такие работы, как напыление металлов в вакууме, фотолитография, химическая очистка, а также сборка и настройка гибридных интегральных схем. |
| Standard photolithography, bulk or surface micromachining, replication techniques (embossing, printing, casting and injection molding), and nuclear track or chemical etching, are commonly used to fabricate structures which exhibit characteristic nanofluidic behavior. | Обычная фотолитография, объёмная или поверхностная микромеханическая обработка, техники копирования (тиснение, печать, литьё и впрыск под давлением), а также треки тяжёлых частиц и химическое травление также могут быть использованы для создания структур, демонстрирующих поведение, описываемое нанофлюидикой. |
| Photolithography in the semiconductor industry. | Фотолитография в полупроводниковой промышленности. |
| Photographic industry Photolithography and semiconductor | фотолитография и производство полупроводников; |