| (a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes; | а) фоторезисты или антибликовые покрытия для процессов фотолитографии; |
| PFOS reduces the surface tension and reflectivity of etching solutions, properties that are important for precise photolithography in the semiconductor industry (photo resists and photo masks). | ПФОС уменьшает поверхностное натяжение и отражательную способность травильных растворов; эти свойства важны для точной фотолитографии в полупроводниковой промышленности (фоторезисты и фотошаблоны). |
| Small amounts of PFOS-based compounds are required during the following critical photolithography applications in manufacturing semiconductor chips: | Небольшое количество соединений на основе ПФОС требуется для следующих важных видов применения фотолитографии в производстве полупроводниковых плат: |
| Photolithography is the most important step towards the successful implementation of each of the other steps and, indeed, the overall process. | Стадия фотолитографии наиболее важна для успеха всех остальных операций, как и процесса в целом. |
| Self-assembled monolayers have been proposed as micro patterns for electronic circuits by using their wetting characteristics to protect the silicon surface as an alternative to conventional photolithography. | Предлагается использовать самоагрегирующиеся материалы в качестве микрошаблонов при производстве электронных схем на основе использования их характеристик смачиваемости для защиты кремниевой поверхности в качестве альтернативы методу традиционной фотолитографии. |
| Some of the methods that are used for 3D bioprinting of cells are photolithography, magnetic bioprinting, stereolithography, and direct cell extrusion. | Некоторые из методов, которые используются в 3D-биопринтинге - фотолитография, магнитный биопринтинг, стереолитография, и прямая экструзия клеток. |
| The microelectronics production field is responsible for the dusting of metals in vacuum, photolithography, chemical cleaning and collection and adjustment of hybrid-integral schemes. | В области производства микроэлектронной аппаратуры осуществляются такие работы, как напыление металлов в вакууме, фотолитография, химическая очистка, а также сборка и настройка гибридных интегральных схем. |
| Standard photolithography, bulk or surface micromachining, replication techniques (embossing, printing, casting and injection molding), and nuclear track or chemical etching, are commonly used to fabricate structures which exhibit characteristic nanofluidic behavior. | Обычная фотолитография, объёмная или поверхностная микромеханическая обработка, техники копирования (тиснение, печать, литьё и впрыск под давлением), а также треки тяжёлых частиц и химическое травление также могут быть использованы для создания структур, демонстрирующих поведение, описываемое нанофлюидикой. |
| Photolithography in the semiconductor industry. | Фотолитография в полупроводниковой промышленности. |
| Photographic industry Photolithography and semiconductor | фотолитография и производство полупроводников; |